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應用材料副總裁暨蝕刻事業群總經理瑞曼?阿丘薩瑞曼（Raman Achutharaman）表示，運用20多年的蝕刻知識，以及應用材料在精密材料移除方面的專業，Sym3系統是從頭開始打造的全新設計，克服了產業上一直以來以及未來的各種挑戰。這款產品顯然大受客戶歡迎，創造出應用材料公司歷史上，採納速度最快的蝕刻機台，也在一些頂尖的晶圓廠創下破紀錄的投產速度。應用材料表示，Centris Sym3系統能減緩副產物的再沉積，以克服線緣粗糙、圖案加載與缺陷產生等的挑戰，同時，新系統也兼具先進的射頻技術，可控制離子能量與角度分布，Sym3能建構出無與倫比的3D結構高縱深比的垂直剖面。(工商時報)

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